2025年9月10日至12日，第26屆中國國際光電博覽會（CIOE中國光博會）在深圳國際會展中心盛大啟幕。作為國內真空鍍膜技術領域的標桿企業與先鋒代表，海威真空攜多項行業前沿技術與創新解決方案精彩亮相，與全球光電產業精英共聚一堂，深度交流并共同探索材料制備技術的未來新趨勢與突破方向。
展會期間，海威真空展臺吸引了來自光學鏡頭、半導體、顯示設備等多個領域的眾多專業客戶。大家普遍關注產能效率、膜層均勻度等關鍵性能指標。通過現場深入的技術交流，客戶得以全面、系統地了解海威真空的技術解決方案。多家企業在交流中表達了明確的合作意向，并約定前往公司總部參觀相關設備，進一步探討合作契機。
技術特點：
•能夠實現0-200層膜的膜系鍍膜；
•可沉積金屬膜、半導體膜、及各類化合（氧化物、氮化物、碳化物等）膜；
•配置高精密的電子槍和離子源；
•集成電阻蒸發，鍍膜工藝和膜厚自動控制，薄膜質量穩定。
應用領域：
各種光學薄膜，如減反/增透膜、反射膜、分光膜、帶通濾光片、紅外增透/截止膜、光通信薄膜等各種膜系
技術特點：
•大面積鍍膜，多室多靶位，靈活性大;
•磁導向傳輸系統，平穩可靠;
•鍍膜前有離子源對基片進行表面清洗和活化，提高附著力，改善膜層質量;
•真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽氣能力;
•便于維修的側裝分子泵和全開式真空室門;
•自行開發的方便的用戶易操作控制軟件;
•真空室的模塊式設計，單點定位，便于拆裝
應用領域：
AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業的不同領域
在為期三天的展會上，海威真空呈現了其在光學鍍膜領域多年技術積累的成果，并與客戶及合作伙伴就膜層性能、自動化生產、產能優化等議題展開深入交流。未來，公司將持續推進技術研發與產線升級，致力于為行業提供更高性能與成本效益平衡的鍍膜設備及整體解決方案。
深圳新益昌海威真空設備有限公司
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