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產品與技術

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ALD設備

ALD設備

機型：
ALD設備....
設備特點
? 高精度膜厚控制:薄膜厚度與循環次數相關，誤差可控制在原子級別。 ? 優異均勻性:可在大面積基底上實現較好的均勻性薄膜。 ? 卓越保形性:對復雜三維結構(如深孔、臺階)的覆蓋率接近100%，適用于高深寬比器件。 ? 低溫工藝兼容性:沉積溫度通常低于300℃，可處理熱敏感材料。 ? 材料多樣性:可沉積金屬(如鋁、鈦、銅)、氧化物(如氧化鋁、氧化錫、氧化鋅、氧化鈦、氧化鉿、氧化硅)、氮化物(如氮化鈦)等多種薄膜。

適用領域

  • 鈣鈦礦電池
    鈣鈦礦電池
  • 半導體芯片
    半導體芯片
  • 鋰電行業
    鋰電行業