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產品與技術

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單腔室濺射設備

單腔室濺射設備

機型：XHCS系列
單腔室濺射設備....
設備特點
? 高效沉積 磁場約束顯著提高了等離子體密度，使濺射速率遠高于傳統濺射方法。 ? 低溫成膜 電子能量主要用于電離而非加熱基片，基片溫升低，適用于塑料、半導體等對溫度敏感的材料。 ? 膜層質量優異 所得薄膜致密、均勻，與基片結合力強，成分接近靶材，適合高性能功能薄膜制備。 ? 適用材料廣泛 可濺射金屬、合金、陶瓷、氧化物等多種材料，支持反應濺射制備化合物薄膜(如氮化物、氧化物)。

適用領域

  • 車載中控屏
    車載中控屏
  • AR玻璃
    AR玻璃
  • 手機背板
    手機背板