電子束蒸發（Electron Beam Evaporation）是物理氣相沉積的一種形式，其中待蒸發材料被來自帶電鎢絲的電子束轟擊，當電子束撞擊目標材料時，它的能量轉化為熱能，使目標材料達到蒸發的狀態，并將其轉化為氣態，在高真空室中，這些蒸發的原子或分子隨后沉積在基板上形成薄膜。

電子束蒸發真空鍍膜設備常見蒸鍍蒸鍍AR / AF涂層，硬質膜、裝飾膜、ITO膜 、帶通濾光片、HR膜等，具有效率高，它還具有用于航空航天工業的耐磨和熱障涂層、切削和工具工業的硬涂層的潛在工業應用。生產能力更強，生產成本更低等優勢，鍍制AR膜（基材玻璃透過率＞91.5%），420-680nm波段，單面平均透過率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% 。雙面平均透過率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%。市面應用廣泛。

電子束蒸發技術原理

依靠電子束轟擊蒸發的真空蒸鍍技術，根據電子束蒸發源的形式不同，又可分為環形槍，直槍，e型槍和空心陰極電子槍等幾種。

環形槍：

是由環形的陰極來發射電子束，經聚焦和偏轉后打在坩鍋內使金屬材料蒸發。它的結構較簡單，但是功率和效率都不高，基本上只是一種實驗室用的設備，目前在生產型的裝置中已經不再使用。 

直槍：

一種軸對稱的直線加速槍，電子從燈絲陰極發射，聚成細束，經陽極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發。

E型槍：

即270攝氏度偏轉的電子槍克服了直槍的缺點，是目前用的較多的電子束蒸發源之一。

空心陰極電子槍：

利用低電壓，大電流的空心陰極放電產生的等離子電子束作為加熱源。空心陰極電子槍用空心的鉭管作為陰極，坩堝作為陽極，鉭管附近裝有輔助陽極。利用空心陰極電子槍蒸鍍時，產生的蒸發離子能量高，離化率也高，因此，成膜質量好。 

電子束蒸發優點：

（1）電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度。可以將高達3000度以上的材料蒸發，并且能有較高的蒸發速度；

（2）由于被蒸發的材料是置于水冷坩鍋內，因而可避免容器材料的蒸發，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應，這對提高鍍膜的純度極為重要；

（3）熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱效率高，熱傳導和熱輻射的損失少。 

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