型號：XHE系列
精密光學電子槍蒸鍍系統，專門為光學薄膜器件鍍膜而設計，各系統設計和整體結構滿足光學薄膜生產工藝要求
真空指標：極限真空：5.0E-5Pa（潔凈空載、有傘架、有護板、無基板情況下）
抽空時間：大氣至3.0E-3Pa≦15min 真空壓升率：≦0.5Pa/h（潔凈空載、抽空至極限真空后開始測試）
烘烤指標：最高溫度300℃，多點控溫，測溫準確，PID智能溫控系統，溫度可控可調。
光學實時監控：先進的光學監控系統，通過安裝在腔內的監控組件，實時監控E-beam傘頂上基片的厚度并反饋回系統，通過饋入反饋信息控制成膜系統，達到實時監控修正膜厚的目的。
成膜系統：270°E型雙電子槍蒸發源，配備擋板，水冷坩堝有環形和多穴位坩堝可供選擇。IAD離子輔助成膜，提高光學膜層特性、改善基片表面活性及附著力等。
可按客戶要求提供多腔室方案。
設備主要用于：光學鏡片、鏡頭、光學儀器等領域，可實現增透、反射、分光、高反膜等功能，提高光學元件的性能和品質。它在現代光學、光電技術及半導體等行業中發揮著重要作用。
深圳新益昌海威真空設備有限公司
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